インフォメーション

6月に開催される「設計・製造ソリューション展（DMS）」に出展します。図研ブースでは、統合データ管理によるリアルタイム連携＆自動化によってケーブル設計品質の向上を実現する「E3.series」をご紹介します。「転記ミス」「システム間連携」「帳票の出力」「DRC」などでケーブル設計に課題を抱えている方は、ぜひ図研ブースでご相談ください。

さらに、今年は2つの新製品も合わせてご紹介します。
注目の新製品の1つ、3D配索検討ツール「XVL Studio WR」は、回路図の接続情報を3D-CADから変換したXVL上で配策の検討が行えるツールです。このツールを使えば、難しい3D CADの操作を覚えなくても誰でも簡単に配策検討ができます。機器内のケーブル配策に課題を感じている方は、この機会にぜひ図研ブースまで足をお運びください。

今回の図研ブース注目の新製品のもう1つ、「Visual Risk」は機能安全IEC-61508における、リスク分析・障害解析の効率化を実現する製品です。様々な製品でリコールが増えている今日、構想設計段階でシステムの安全性・完全性を担保できること、すなわちリスクベースの設計手法が国際的な注目を集めています。
機能安全だけではなく、サイバーセキュリティ規格IEC-62443、品質マネージメント改訂ISO-9001など、現代のモノづくりに必要不可欠なリスクベースデザインを強力にサポートします。

電気設計に携わる方々、機能安全設計にご興味のある方々は、ぜひ図研ブースまでご来場ください。

【出展情報】
展示会名：第28回 設計・製造ソリューション展（DMS）
日時：22017年6月21日(水)～23日(金) 10:00～18:00 （最終日のみ～17:00）
会場：東京ビッグサイト
小間情報：東2ホール（小間番号：34-20）

こちらの図研コーポレートサイトのご案内ページもご覧ください。